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CVD(G)系列高温真空气氛管式炉专门设计用于高温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等等。 窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温,优质硅钼棒加热,优质99刚玉管炉膛,气体采用浮子流量计流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制,有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点,是理想的科研设备。
中温箱式炉设计用于陶瓷材料、电子元件、磁性材料、NFC铁氧体磁性薄片、NTC陶瓷芯片、粉末冶金等产品的排胶、预烧和烧成,也可用于其它材料的热处理工艺。该电阻炉热工材料选用高品质的节能型进口泡沫砖和纤维制品砌筑而成,加热元件选用进口KTL电阻丝绕螺旋穿刚玉管方式加热,加热管五面布置。控制仪表选用日本进口64段程序控制仪表,设备具有控温稳定、性能优越、能耗较低、炉膛洁净等优点,非常适合企业中、小批量生产和科研之用。
热风循环炉作为周期性生产窑炉之一,专门设计用于陶瓷材料的脱脂工艺。加热方式采用经典的热风循环原理,大大提高了温度的均匀性。炉膛内腔全部采用耐高温、抗腐蚀的SUS310S不锈钢板制作而成;温度控制仪表选用日本导电智能64段程序智能控温仪,其具有P、I、D参数自整定和人工修订功能,同时具有超温、欠偶、断偶等断电报警保护功能。是目前国际、国内比较成熟、先进的温度控制仪表。炉体结构参照进口设备、外型优化处理,是企业大批量生产的理想设备。
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