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1200系列八温区真空管式炉LFT1200C2400D200VIII设备主要适用于中小批量材料在高温条件下热处理，集控制系统与炉膛为一体，保温材料使用高纯氧化铝纤维材料，内嵌式加热式与保温材料一体成型。炉管采用高纯石英管，石英管和金属法兰之前采用橡胶挤压密封，加热丝均匀分布于炉管四周，确保良好的温场均匀性。测温采用性能稳定、长寿命(适于中高温检测)的“K"型热电偶，以提高控温的精确性。
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立式淬火炉 LFT1500C 50D30 OP，炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用硅碳棒为加热元件。该设备设计为立式结构，样品由吊丝固定,真空腔室上端配有电磁铁固定吊丝,可在真空条件下完成淬火工作。其炉管为外径Ф30mm的刚玉管，采用法兰来密封。此设备设计是用于样品高温淬火。样品高温处理后，迅速坠落到冰水中或油中，来研究样品在高温状态下的相变和结构。炉体的控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、电磁铁旋钮开关、主加热工作/停止按钮，工作状态指示灯，以便随时观察本系统的工作状态。
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煅烧炉，集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，加热元件为优质硅碳棒。石英腔体横穿于炉体中间作为炉管，炉管两端用不锈钢法兰密封，工件式样在腔体内加热，加热元件均匀分布于腔体下侧，有效的保证了温场的均匀性。测温采用适用于高温环境的“S"型热电偶。煅烧炉能够快速开启，快速升降温，方便客户对特殊材料的装载，烧制和观察。炉体的控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，工作状态指示灯，以便随时观察本系统的工作状态。
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真空气氛箱式炉 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半导体器件、金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用电阻丝加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30 段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。炉体采超轻质高铝纤维材料，具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点，设备可根据真空度的需要分别选用机械泵或其他真空机组，非常适合于试验和小批量生产之用。
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多温区管式高温高压炉集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用硅碳棒为加热元件，均匀分布于炉管两侧，温场均匀可靠。镍基合金材料制成的金属炉管配备CF法兰密封形式及金属紫铜密封圈，提高设备的使用温度，同时能实现在一定的高压条件下实验。工件式样在管中加热，加热元件与炉管平行，均匀地分布在炉管外，有效的保证了温场的均匀性。
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立式高温淬火炉如图所示，集控制系统与炉膛为一体。炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用电阻丝为加热元件，用于催化剂焙烧，方便催化剂装填和转移。石英玻璃管横穿于炉体中间作为炉膛，炉管上端用选用不锈钢法兰密封，下端可用根据用户要求使用橡胶塞隔热，配有不锈钢双层托架，可放置样品。工件式样在管中加热，加热元件与炉管平行，均匀地分布在炉管外，有效的保证了温场的均匀性。测温采用性能稳定、长寿命的“K”型热电偶，直接和式样接触，以提高控温的精确性。
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新能源材料设备是由开启式真空管式炉根据特殊工艺要求而设计的，其滑轨式结构设计在实验过程中可满足多种工艺要求，可将样品直接推至实验所需设定高温区，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率，满足工艺要求对升降温要求较高的实验，是一款性价比很高的产品，同时具有一定的可扩展性，比较适用于二维材料，碳材料的实验要求。
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该石墨烯制备设备双温区滑轨式CVD系统系统由预热炉、双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。CVD(化学气象沉积系统)常用于表面材料生长、沉积，是一款实验室常用设备。
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碳纳米膜制备设备，由气体质量流量计控制系统、液体注液系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统，红外烘干系统等组成。生长炉的最高温度1400℃，并可在0-1400℃之间连续可调，垂直式分布热场，三点控温(三段长度平均分配)，设备顶部设有注液口、导流器。炉体采用双层壳体结构并带有风冷系统，保温材料为加厚型，壳体表面温度小于60℃。采用高纯氧化铝管作为炉膛材料，加热元件为优质硅碳棒。本款碳纳米管或膜CVD设备可以实现连续生长不间断的特点。
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设备型号：GXL-15 最高温度：1600℃ 使用温度：RT～1500℃ 炉膛有效容积：200×185×400mm(W×H×D) 炉膛材料：进口氧化铝、高铝和硅酸铝纤维制品 加热元件：优质U型硅钼棒（1800型） 控温点数：1个（B分度热偶） 控温精度：±1℃ 温度均匀性：±5℃（温度1000℃以上，有效区域为炉膛浓缩10%） 温控系统：日本进口64段程序控温仪表，PID参数自整定，超温、断偶报警等保护。 最大加热功率：约12kW 空炉保温功率：约5Kw 供电电源：三相电源，50HZ ，380V±10%；15KW 炉体表面温升： ≤35℃
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LFT1600C 300D80高温真空管式炉采用双层风冷结构，炉体表面温度≤60℃，炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。优质硅钼棒为加热元件，炉管使用能耐较高温度高纯氧化铝管，适合较高温度条件下材料烧结处理，是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的专用理想设备。
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箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。炉膛采用高质量氧化铝微晶体纤维材料，最高温度能达到1200℃ 。该款设备广泛用于先进陶瓷（科齿、骨骼等）、电子陶瓷(PTC、NTC、MLCC等)、电子元件、磁性材料、纳米粉体材料等产品的排胶、预烧和烧成，也可用于汽车配件热处理等诸多领域。 （1）保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料，环保节能。 （2）采用模糊PID控制，控温精度可达±1℃。 （3）炉体采用双层风冷机构，炉子烧到最高温度时，壳体表面温度低于60℃。 （4）采用多种保温材料组成，能耗小。
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MFC-4Z是一款4路质量流量计控制系统，其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里，移动柜最大可以承重1000Lbs，所以在与本公司大多数管式炉配套使用时，可将设备置于移动柜上以节约空间。各通道气路的流量设定和状态显示都集中在一个7"的触摸屏上，同时可以实时查看气体流量曲线和数据。此款设备广泛的用于材料界中CVD实验和各种材料的退火实验。
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该设备主要适用于粉末材料在高温条件下热处理或者粉末材料的表面生长，该回转加热系统集控制系统与炉膛为一体，炉膛使用高纯氧化铝纤维材料，采用进口电阻丝为加热元件，炉膛结构可上下开启，方便观察石英管以及物料的状态。异型石英管贯穿于炉体中间，炉管两端采用不锈钢法兰密封，进出气口使用旋转接头连接，使搅拌过程顺畅。物料翻转顺畅。 粉末状材料在管中加热，加热丝均匀分布于炉管四周，确保良好的温场均匀性。测温采用性能稳定、长寿命（适于中高温检测）的“K”型热电偶，以提高控温的精确性。
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该设备设计为双层风冷结构，使用时表面温度＜60℃，炉膛采用氧化铝纤维，加热元件内嵌于保温层内，使用寿命长，炉管工件横穿于上下共8组进口电阻丝的炉膛，温场均匀。其开启式结构使得拆装炉管方便，操作简捷。LFT1200C 440D60HV系列高温高压真空管式炉设备设计为耐高温金属炉管，该设备容许在高温高压或者高真空条件下使用，最高工作气压可达5.5Mpa(≤800℃)，0.9Mpa（≤1100℃）。该设备使用电阻丝为加热元件，加热丝均匀分布于炉管四周，温度均匀。配备金属炉管最高可达900-1100℃（不同温度条件下所配炉管材质不同）。
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应用：采用双层壳体机构，炉膛使用氧化铝多晶纤维材料，广泛应用于材料金属在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理，也可用于特殊材料的热处理，如碳制品的碳化工艺。 特点：炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计进入炉内，并有多处洗炉膛进气口、出气口有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体。真快度可达10pa，具有温差均匀，表面温度低，升降温速度快，节能等优点，温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪表控制。
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应用：采用双层壳体机构，炉膛使用氧化铝多晶纤维材料，广泛应用于材料金属在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理，也可用于特殊材料的热处理，如碳制品的碳化工艺。 特点：炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计进入炉内，并有多处洗炉膛进气口、出气口有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体。真快度可达10pa，具有温差均匀，表面温度低，升降温速度快，节能等优点，温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪表控制。
2025年05月08日 ~ 10日 
2025年05月09日 ~ 11日 
2025年05月09日 ~ 11日 
2025年05月09日 ~ 11日 
2025年05月16日 ~ 18日 
