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ITO废靶重制ITO粉、高密度靶材及其制备方法与流程

873   编辑:中冶有色网   来源:先导薄膜材料(广东)有限公司  
2023-09-14 10:52:22
一种ito废靶重制ito粉、高密度靶材及其制备方法技术领域1.本发明属于ito靶材生产技术领域,具体涉及一种ito废靶重制ito粉、高密度靶材及其制备方法。背景技术:2.ito靶材是一种铟锡复合氧化物陶瓷材料,基于该靶材制备的半导体薄膜具有高电子迁移率、高透光率和低生长温度的优异特性,因此被广泛使用,年用量已超过1000吨;但由于技术限制,目前ito旋转靶和平面靶利用率分别为75%和35%,大量的残靶和废靶无法正常使用;由于铟是一种宝贵的稀缺资源,必须做好铟的循环利用工作。3.目前,针对废靶的回收方法主要有三种。第一种是通过湿法回收,将铟锡分离,得到粗铟后再重新制备ito靶材,由于工序流程多,设备容易腐蚀,会产生废水,导致回收成本高;第二种是在超高温度条件下,将ito废靶直接气化,冷凝后得到细颗粒的ito粉末,cn102367519a利用等离子设备产生高温电弧,在3000~6000℃的高温作用下,得到平均粒径《100nm的ito粉末;cn113387682a将靶材置于4000~5000℃的高温条件下气化,得到纯度4n,比表面6-8cm2/g的ito粉;这种方法由于耗能大,设备昂贵以及生产时间长等原因,不利于大规模生产。第三种是通过挤压、球磨、气流破碎等物理破碎方式,将ito靶材直接粉碎后重新制备ito靶材,专利cn112079627a公开了一种由ito废靶经过三级粉碎制粉并生产ito靶材的制备方法,得到粒径小于200目的废靶材粉末,经过成型烧结后,得到的靶材相对密度大于99.7%。专利cn113149611a公开了一种ito废靶坯回收制备的ito粉末、靶材及其制备方法,将粉碎后的废靶坯热处理后,再进行球磨制浆,球磨30~60h后,得到颗粒粒径d50=50~200nm的ito浆料,烧结得到的靶材相对密度可达99.79%。cn111632730a通过18~24h的振动球磨,将粒径小于10um的ito粉末处理成100~500nm的ito粉末;这种方法虽然简单,但得到的ito粉末颗粒大小不均匀,破碎时间长,即使通过气流破碎,仍然无法直接用于高密度靶材的制备,且气流破碎产能低,不利于大规模废靶处理。因此,有必要提供一种新的方案,解决ito靶材直接破碎时间过长和相对密度有待进一步提高的问题。技术实现要素:4.针对以上现有技术存在的缺点和不足之处,本发明的首要目的在于提供一种it
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