本发明实施例公开了一种掩模板的清洗系统和清洗方法。该掩模板的清洗系统包括:掩模板支撑设备和清洗设备,所述掩模板支撑设备用于支撑掩模板;所述清洗设备用于向所述掩模板的表面吹超声波气体,所述超声波气体为经超声波处理的气体;所述超声波气体的流速大于预设速度,以在所述掩模板表面形成空化泡,清洗所述掩模板表面的污渍。与现有技术相比,本发明实施例在确保对掩模板的清洗效果的基础上,减少了药液用量、减少了产生的废液量以及降低了危险性。
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