本发明属于半导体光催化改性
复合材料技术领域,尤其涉及一种WO
3掺杂改性铋系光催化材料制备方法和应用,采用常温条件下超声振动等常用实验手段制备出WO
3掺杂改性铋系光催化材料,反应时间较短,避免了高压设备带来的危害性,提高了实验过程的安全性能,降低了废液排放的有害性,并且制备的样品尺度均匀,具有较薄的纳米片层。本发明实现了常温常压制备,合成方法简单;本发明可以使多种金属离子同时沉淀,所制备的片层状
纳米材料使得光催化性能提高50%;本发明制备得到的WO
3改性BiPO
4纳米金属氧化物纯度较高,无明显杂质,纯度可达99%以上;制备工艺简单、周期短、成本低,可以达到工业化生产的目的,同时可以在常温下制备,节约能源消耗。
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“WO3改性BiPO4光催化剂的制备及其应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)