本发明公开了一种新型压印膜的制备方法,包括:基材,所述基材的上部设置有胶黏层和压印膜层,所述胶黏层位于基材和压印膜层之间。本发明在基材表面设置一层胶黏层,使压印膜层通过胶黏层与基材之间相连接,通过光刻以及刻蚀工艺在压印膜层表面形成纳米压印结构,压印模板不同位置、不同图形的结构深度等于压印膜层的厚度,其深度更好,在制备过程中不需要刻蚀硅片,不会对硅片造成损伤,一旦发现工艺异常、精度不达标,可去除基材表面的膜层进行返工,从而避免的硅片报废,降低生产成本,并提高良品率,该胶黏层在常温下呈固体,无粘连性,便于涂覆、烘干后与薄膜相连。
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