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硅晶片蚀刻废水处理系统及处理方法

653   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 04:30:56
本发明涉及一种硅晶片蚀刻废水处理系统及处理方法，是在工作槽中利用HF溶液和HNO3溶液组成的混合酸蚀刻溶液对硅晶片进行蚀刻时所排出的H2SiF6溶液进行循环再利用，其特征在于，所排出的H2SiF6溶液通过酸再生与硅再生系统中的电解反应槽电解析出固体Si和酸性气体HF，其中，所析出的固体Si被分离出并回收再利用，所析出的酸性气体HF被水吸收后导入到所述工作槽中形成可回收利用的混合酸蚀刻溶液中的HF溶液。本发明实现了硅晶片蚀刻废水循环利用，从而减少酸腐蚀溶液的消耗，消除酸腐蚀废液的产生并避免有毒废气的排放，从而提供保护环境并提高了经济效益。
声明：
“硅晶片蚀刻废水处理系统及处理方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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