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应用于薄膜电镀铜添加剂及其电镀工艺

692   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 03:36:57
本发明公开了一种应用于薄膜电镀铜添加剂及其电镀工艺，该电镀铜添加剂包括以下质量浓度的组分：硫酸铜60‑90g/L、复合光亮剂40‑120mg/L、复合整平剂30‑90mg/L、润湿剂10‑40mg/L、防折镀剂20‑60mg/L、电解质0.1‑0.5g/L、稳定剂20‑45mg/L。该发明溶液属于中性电镀铜溶液，废水处理简单，镀液稳定性能优异，镀层均匀光亮结合力好，使用电流密度范围为0.1‑6.5A/dm2。
声明：
“应用于薄膜电镀铜添加剂及其电镀工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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