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钯离子印迹共聚物膜的制备方法以及钯离子印迹共聚物膜的应用

1019   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 03:35:57
本发明属于的领域,具体涉及一种钯离子印迹共聚物膜的制备方法以及钯离子印迹共聚物膜的应用,钯离子印迹共聚物膜的制备方法包括如下步骤:(1)双羟基端聚砜的制备:4,4‑二氯二苯砜与双酚A进行亲核缩聚反应制备双羟基端聚砜;(2)大分子链转移剂的合成;(3)三嵌段共聚物的制备;(4)金属‑有机复合物的制备;(5)成膜。本发明制备的钯离子印迹共聚物膜选择性吸附容量大、吸附速度快、使用寿命强,具备较好的膜分离能力和极高的通量,可极大地提高了钯离子的分离效率。本发明制备的非印迹共聚物膜在酸性溶液条件下能对钯离子有很好的特异性选择,钯离子印迹共聚物膜的特异性选择则更高,可以将钯(II)从电镀漂洗废水有效分离。
声明:
“钯离子印迹共聚物膜的制备方法以及钯离子印迹共聚物膜的应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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