本发明提供了一种不含氨氮的酸性蚀刻液,包括不含氨氮的氧化剂和不含氨氮的酸性蚀刻液添加剂;所述氧化剂与酸性蚀刻液添加剂的重量比为(0.8~1.0):(2~2.5);所述氧化剂,按重量百分数包括以下组分:氯酸钠12%‑20%,氯化钠12%‑18%,尿素0.5%‑1.5%,水60.5%‑75.5%;所述酸性蚀刻液添加剂,按重量百分数包括以下组分:氯化氢16%‑25%,氯化钠2%‑5%,硫脲0.5%‑1.5%,水68.5‑81.5%。这种不含氨氮的酸性蚀刻液,从源头上避免了氨氮的使用,使得PCB生产企业无需对生产废水进行氨氮水性等处理,而且本酸性蚀刻液在添加剂中加入了蚀刻速率提升组分,保证蚀刻的生产速度,使蚀刻效果优于采用氨氮组分的酸性蚀刻液。
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