本发明是有关一种宽温低铬酐镀铬添加剂及其 制备,其特征在于由氟化
稀土和氟硅酸钠混合组成, 其制备工艺是按一定量的氧化稀土(镨钕富积物)进 行溶解、沉淀、过滤洗涤、反应、研磨、再过滤洗涤、烘 干,按比例1.5~2.3∶1加入氟硅酸钠经混合均匀即 成。本发明电流密度范围为5~30A/dm2,电流效 率高为22%以上,温度范围为17~55℃,镀层一次 合格率达95%以上。降低废水中排铬含量60~ 70%,节水、节电。
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