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回转反应炉热裂解氟硅酸钠制备四氟化硅的方法

672   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 03:27:18
本发明提供一种回转反应炉热裂解氟硅酸钠制备四氟化硅的工艺,将氟硅酸钠在200℃～300℃下在煅烧炉内干燥热处理,除去其中的水份,煅烧炉内维持负压,负压值控制在10～30mmH2O;将干燥后的氟硅酸钠送入回转反应炉,在500～900℃(物料温度)下热裂解1～2个小时,热裂解得到四氟化硅和氟化钠。产生的四氟化硅气体经过除尘、冷却、干燥、压缩、收集高纯的四氟化硅气体。本发明工艺过程反应物单一,无废气、废水、废渣排放,属于环保综合利用项目。
声明：
“回转反应炉热裂解氟硅酸钠制备四氟化硅的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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