本发明涉及一种氢氧化铟的洗涤工艺,属于ITO靶材技术领域,包括以下步骤:将氢氧化铟前驱体浆料送入隔膜压滤机进行压滤,得到滤饼和废水,将滤饼加入一级搅拌罐中,加入去离子水,搅拌处理后过滤,得到一次沉淀和一次浸出废液;将一次沉淀加入二级搅拌罐中,并在二级搅拌罐中加入乙醇和离子液体,搅拌分散后进入陶瓷膜过滤单元,经过陶瓷超滤膜浓缩至固含量为15‑20%得到一级浓缩液,用离心泵打入去离子水于一级浓缩液中,经过陶瓷超滤膜再次浓缩洗涤至渗透液的电导率小于15μs/cm得到二次浓缩液,经过喷雾干燥,得到高纯度氢氧化铟,该洗涤工艺不仅能够去除氢氧化铟粉体中的金属离子,还能去除有机物质,并且废水产生量小。
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