本发明涉及一种基于Bi系光催化半导体功能织物的低温原位制备方法,包括:(1)用有机溶剂超声清洗织物,再在高效净洗剂中处理,得到处理后的织物;(2)在惰性环境下,将硝酸铋与乙二胺四乙酸二钠分别加入碱性缓冲液中,滴加润湿剂,得到溶液A;在惰性环境下,将偏钒酸钠加入碱性缓冲液中,搅拌时加入氢氧化钠溶液和去离子水,得到溶液B;(3)将溶液B逐滴加入至溶液A中,得到光催化前驱体溶液;(4)将步骤(1)得到的处理后的织物浸渍到上述光催化前驱体溶液,烘干后在沸水中处理,最后烘干,即得。本发明的制备方法简单,成本低,易于工业化生产;本发明的柔性光催化环境净化材料废水处理效果好,无二次污染,可长期使用。
声明:
“基于Bi系光催化半导体功能织物的低温原位制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)