本发明公开一种用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法,涉及电子工业清洗技术领域。本发明公开的用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法,具体步骤为:往调和釜中加入所需去离子水,开启搅拌,然后加入无机碱和有机碱,搅拌至溶解;待碱液澄清透明后,将表面活性剂、增溶剂、螯合剂、抗再沉剂依次按照所需比例加入调和釜中,搅拌,然后加入助溶剂直至混合液清澈透明,再加入消泡剂,搅拌均匀。本发明制备的用于硬脆材料晶片的清洗剂与污染物相容性好,操作安全,性能稳定,清洗效率高,使用周期长,能有效提高加工效率。本发明配方中所用到的添加剂均符合电子级别清洗要求,符合国家环保法规所规定的废水配方标准不污染水质和土壤,绿色环保。
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