一种等离子体射流阵列均匀处理水溶液的装置,等离子体射流阵列结构包括多个结构相同的等离子体射流装置;等离子体射流装置包括绝缘介质一,绝缘介质一的上部与下部均环绕有金属环一与金属环二;电源包括高压极与地极,高压极、地极分别与金属环一、金属环二连接。等离子体射流阵列结构可用于大面积的水溶液处理;喷泉式的水柱保证水溶液处理的均匀性和连续性;等离子体射流阵列结构与水处理装置的水溶液相分离,两者之间的距离可调节,等离子体放电不受水溶液的影响,放电具有稳定性;应用范围广泛,可用于工业废水、
污水处理,水溶液消毒灭菌以及制备消毒水等,且不会产生二次污染;结构简单,成本低,易操作,产品易扩大,易于工业转化。
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