本发明公开了一种用于去除高浓度废水污染物的深度氧化设备及方法,包括设备主体,所述设备主体上安装有压泥机、原水池、污水池、入网池、气浮调节池、沉淀池、清水池、控制室、机房、高分子池、排放池与双氧水储罐,所述沉淀池的位置安装有第一反应釜、第二反应釜、第三反应釜与高塔,所述清水池上安装有清水气浮池与污水气浮池。本发明所述的一种用于去除高浓度废水污染物的深度氧化设备及方法,在现有印染废水处理工艺基础上,增加Fenton氧化工艺;通过优化设计Fenton氧化反应器结构配合复合气浮运行、合理调整工艺参数,开发适用于印染废水处理的Fenton氧化技术,解决传统处理工艺出水中污染物超标问题。
声明:
“用于去除高浓度废水污染物的深度氧化设备及方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)