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半导体工艺废水之处理方法

975   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 01:38:29
本发明提供一种由数股半导体工艺废水汇集成的综合废水的处理方法，该综合废水不含NH4F/HF缓冲的氧化物蚀刻液(Buffered Oxide Etch solution)废水(简称NH4F/F-废水)，而基本上含有氧化剂、有机物、无机物、及氨氮杂质。首先对该综合废水进行去氧化剂处理；接着以无氧微生物分解方式进行处理，使其中所含的杂质被部份分解；再以有氧微生物分解方式进行处理，使残留于其中的有机物及氨氮被进一步分解，而得到可回收或排放的废水。本发明方法进一步包含对NH4OH淋洗废水、TMAH黄光工艺废水、或NH4F/F-废水进行个别处理的步骤，及将此等个别处理所得到废水整合于该综合废水的处理方法。
声明：
“半导体工艺废水之处理方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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