本发明涉及同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和化学需氧量的处理方法,属于废水处理技术领域。将废水输送至调节反应池,通过氧化还原反应去除原水中的二氯异氰尿酸钠;经上述处理的废水用泵提升至混凝沉淀池,进行序批式混凝沉淀反应,工艺过程依次为进水、加药、混凝、沉淀和出水;经上述处理的废水从中间池用泵提升至序批式活性污泥池,进行好氧生物处理,工艺过程依次为进水、曝气、沉淀和排水,最终出水中砷和COD浓度可同时达到《城镇
污水处理厂污染物排放标准》(GB18918-2002)一级B标准。本发明的方法可同时去除砷化镓晶片生产加工废水中的砷、二氯异氰尿酸钠和COD等污染物,处理效率高,运行稳定性高。
声明:
“同时去除砷化镓晶片生产加工废水中砷和COD的处理方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)