一种新颖及改进的废水处理系统,适用于处理CMP制程的废水与BG废水及/或BW废水。一暂存槽接收来自CMP制程的废水,一暂存槽接收来自BG制程的废水,一暂存槽接收来自BW的废水,另一收集槽接收来自CMP(chemical mechanical polish)暂存槽废水与背面研磨(backside grinding,BG)暂存槽的废水。一反应槽接收来自收集槽的废水及BW(back wash)的废水,一凝结用带正电荷的高分子助凝剂在反应槽中与研浆粒子结合,使研浆粒子从溶液中沉淀析出。一或一对沉降槽接收来自反应槽的废水,且与带负电荷的高分子聚合物结合的研浆粒子在沉降槽中从废水中分离出来。一放流槽接收来自沉降槽净化后的废水,此净化后的废水可用输送泵送至一储存槽,例如一回收水(RCW)槽,用于例如废气洗涤装置的清洁制程。
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