本发明公开了一种钾掺杂介孔g-C3N4光催化材料的制备方法,属于光催化材料技术领域。该方法包括如下步骤:将三聚氰胺和KI充分研磨后平铺于坩埚底部,将SBA-15均匀的分散在三聚氰胺和KI混合物的上面,然后将坩埚加盖后置于马弗炉内进行煅烧,产物经处理后即得所述钾掺杂介孔g-C3N4光催化材料。该光催化材料比表面积大使得反应活性位点增加,钾掺杂后可有效抑制光生电子和空穴的复合,表现出更优异的光催化性能。本发明钾掺杂介孔g-C3N4光催化材料可降解有机染料废水,在60min能降解80%以上的目标降解物,显示了优异的光催化活性。
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