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电子产品制造及冶金过程中含铊废水的深度处理方法

587   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 01:05:05
本发明公开了一种电子产品制造及冶金过程中含铊废水的深度处理方法。本发明方法用于处理初始含铊量为1.6mg/L以下的废水，具体步骤如下：1）、向电子产品制造及冶金过程产生的含铊废水中投加生物制剂，反应15~30min后静置；2）、投加化学混凝沉淀剂，过程中用碱调节pH10~12，反应15~30min后过滤；3）、向步骤2）所得滤液中加入混凝吸附剂，搅拌反应15~30min后过滤，即可得到达标排放的含铊废水。本发明方法也可同步处理含铊废水中含有的其它重金属离子。本发明可在现有设施上改造进行，可节约大量投资成本，工艺简单，运行稳定，工业化应用前景广阔。
声明：
“电子产品制造及冶金过程中含铊废水的深度处理方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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