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半导体工业废水处理技术及回收利用工艺

1017   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 01:02:55
本发明公开了一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其工艺步骤如下：该半导体废水主要分三大类：包括含铜，镍，锡重金属废、含氟离子废水，其处理工艺流程如下：首先将切割研磨硅片产生的废水和纯水系统反洗及RO浓水，分流单独处理，重金金属废水和含氟离子废水集中单独处理后再集中处理，合格达到半导体废水排放标准再排放；研磨切割废水单独处理后合格部分回收利用。有效的解决了现有技术中的缺陷，大大提高了该工艺效率。
声明：
“半导体工业废水处理技术及回收利用工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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