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高薄膜稳定性铜靶 已认证

高薄膜稳定性铜靶

浏览量 912
规格/型号:Ф50.8*4mm
品牌:暂无
应用领域:主要应用于集成电路、半导体显示、光伏产业、新能源锂电、通信、超导、航天等领域 。产品形态包含平面靶(圆形/方形)、旋转靶(管状)及异型定制靶材 。
产地:北京 - 北京
咨询电话::18612792728(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2026-07-10
级别:已认证

高薄膜稳定性铜靶说明介绍

简介 铜靶材(Copper Target)是真空镀膜行业溅射靶材的一种,由高纯度铜材料经加工制成特定尺寸和形状,适配磁控溅射、射频溅射等工艺,用于镀制半导体薄膜、导电膜等功能膜层 [。主要应用于集成电路、半导体显示、光伏产业、新能源锂电、通信、超导、航天等领域 。产品形态包含平面靶(圆形/方形)、旋转靶(管状)及异型定制靶材 。 铜靶材纯度范围覆盖99.95%至6N(99.9999%)等级,采用电解提纯、真空熔炼、锻造轧制等工艺制备,需控制晶粒尺寸与氧含量等指标 [4-5] [8] [10]。行业已实现高纯铜原料与靶材的规模化生产,并通过了特定制程的工艺认证 。行业内掌握了大型旋转靶的制造技术,能够生产大尺寸规格的产品,并持续扩充高纯材料的产能 。在先进制程中,铜靶材仍需解决夹杂缺陷控制等技术难题,对材料纯度等性能的要求也更为严苛 技术参数
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企业认证:
营业执照已认证    手机号已认证
所属领域:
冶金,材料,钽铌
企业性质:
生产型
经营范围:
高纯化合物材料、高纯金属材料、高熵合金、溅射靶材、纳米粉末、镀膜材料、3D打印粉末、增材制造材料
联系电话:
18612792728
详细地址:
回龙观镇建材城西路87号院8号楼8层2-918-1
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