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双头立式金相试样抛光机

双头立式金相试样抛光机

浏览量 464
规格/型号:PG-2C型
品牌:常密朗德
应用领域:分析检测
产地:江苏 - 苏州
厂家/供应商:密朗德仪器科技(江苏)有限公司
咨询电话::13061746621(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2025-08-04
级别:待认证

双头立式金相试样抛光机说明介绍

 常密朗德


工作原理

设备通过直流电机驱动抛光盘高速旋转(0-1500rpm可调),配合压力调节系统控制试样与抛光布之间的接触力。操作时,将镶嵌后的试样固定在磁性夹具上,通过加压臂施加恒定压力(0-50N可调),使试样表面与抛光盘上的研磨剂(如金刚石悬浮液、氧化抛光液)产生均匀摩擦,逐步去除加工变形层,最终获得镜面级光洁度。双工位设计允许两侧独立设置转速与压力,满足不同材料的差异化制样需求。



应用范围

覆盖多行业金相制样场景:在钢铁冶金领域,用于分析钢材晶粒度、夹杂物形态及热处理效果;汽车行业支持发动机零部件(如缸体、齿轮)的失效分析;航空航天领域可检测钛合金、高温合金的微观组织;电子行业用于半导体材料表面缺陷观察。设备兼容从粗磨(240#砂纸)到精抛(0.05μm抛光布)的全流程制样,适配直径20-50mm的标准试样。



技术参数


抛光盘直径:Φ250mm(双盘独立驱动)

转速范围:0-1500rpm(无级调速)

压力调节:0-50N(电子数显)

冷却系统:内置可调流量喷淋装置,支持外接循环冷却液

电源配置:AC380V±10%,50/60Hz,总功率1.5kW

外形尺寸:900×650×1200mm,净重180kg


产品特点


高效双工位设计:两侧抛光盘独立控制,可同时进行粗磨与精抛,制样效率提升100%。

精准压力控制:电子数显加压系统,压力波动≤0.5N,确保试样表面平整度。

安全耐用:全封闭防护罩与急停按钮双重防护,进口轴承与高强度抛光盘保障10万次无故障运行。

人性化操作:可倾斜式控制面板支持坐姿操作,废液收集盘便于清洁,降低劳动强度。

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