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CVD石墨烯生长炉

CVD石墨烯生长炉

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规格/型号:HTTF-1200-CVD
品牌:恒通炉业
应用领域:材料制备
产地:河南 - 郑州
厂家/供应商:郑州恒通炉业有限公司
咨询电话::18039271502(请说明信息源自“中冶有色网”)
更新时间:2025-05-07
级别:待认证

CVD石墨烯生长炉说明介绍

CVD石墨烯生长炉

CVD石墨烯生长炉专门针对于用在金属箔上生长薄膜物质,如石墨烯、使用时把金属箔附在内管上。其最高工作温度可以达到1200℃,专门针对于用CVD化学气相沉积方法在金属箔上生长薄膜物质,如石墨烯、太阳能电池的电极材料和电池电极材料等。

石墨烯生长炉由HTTF1200真空管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成 ,最高温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计,混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。

石墨烯生长炉是一种特殊的CVD系统(化学气相沉积系统),是专门为在金属箔(像箔、箔等)上生长薄膜而设计,广泛应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究上,特别适用于碳纳米管、碳纳米线、石墨烯的生长。

HTTF-1200真空管式炉采用掺钼合金加热丝为加热元件,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,能进行30段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用日本进口氧化铝多晶纤维材料,具有温场均衡、表面温度低、节能等优点。

真空管式炉软件控制系统:该炉配有通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出。

产品名称:石墨烯生长炉(纳米管生长炉)

产品型号:HTTF-1200-CVD

管式炉

加热区长度:440mm

恒温区长度:150 (+/-1 ℃)

工作温度:1100℃(此温度为长期加热温度)

最高温度:1200℃

炉管尺寸:Φ60×1440mm

等离子射频电源

输出功率:5 ~500W ± 1% .

射频频率:13.56 MHz ±0.005% .

反射功率:最大约200W

阻抗匹配:自动

真空泵机组(双极旋片泵)

真空度:10-3torr

波纹管:KFD25 快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连.

质量流量计

四通道控制:精度0.02% 、数字显示、自动控制、 一个混气罐、底部装有泄废液口

MFC 1范围:0~100 sccm

MFC 2和3:0~500 sccm

进气接口:1/4NPS

出气接口:1/4NPS

水冷系统

水冷法兰要求:水流量 >= 10L/M ,配有专业水冷机组

石墨烯生长炉标准配件:

质子混气系统1台、双旋机械泵1台、水冷系统1台、K型热电偶1支、气炼石英炉管1根、不锈钢法兰1套、不锈钢炉钩1、刚玉炉塞2对、高温手套1副、刚玉坩埚2个、说明书1份.
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石墨烯生长炉

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