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铝合金PVD结构、铝合金装饰件及电子设备的制作方法

734   编辑:中冶有色技术网   来源:闻泰通讯股份有限公司  
2023-09-21 13:54:14
铝合金PVD结构、铝合金装饰件及电子设备的制作方法

铝合金pvd结构、铝合金装饰件及电子设备

【技术领域】

1.本实用新型涉及表面处理技术领域,具体的涉及一种铝合金pvd结构、铝合金装饰件及电子设备。

背景技术:

2.电池盖是一种安装在手机背面的手机外观配件,主要起保护、装饰等功能,因此一般电池盖上装有铝合金装饰件,以提升美观度。目前,随着柔性屏和折叠技术的发展,折叠手机成为未来趋势,折叠手机设有用于折叠的转轴,转轴的表面通常为不锈钢或者液态金属并进行pvd镀膜(pvd,即物理气相沉积技术,表示在真空条件下,采用物理方法,将材料蒸发成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体,在基体表面沉积成具有某种特殊功能的薄膜的技术),然而电池盖上的铝合金装饰件因表面硬度与pvd镀层60不匹配而采用阳极处理,使得铝合金装饰件的表面与转轴的表面容易出现色差,影响手机的品质。

3.鉴于此,实有必要提供一种铝合金pvd结构、铝合金装饰件及电子设备以克服现有技术的不足。

技术实现要素:

4.本实用新型的目的是提供一种铝合金pvd结构,旨在提高复合板的美观度。

5.为了实现上述目的,本实用新型第一方面提供一种铝合金pvd结构,包括铝合金基材,所述铝合金基材的表面依次设有镀锌层、镀铜层、镀镍层、镀铬层及pvd镀层。

6.作为本实用新型铝合金pvd结构的一种改进,所述镀锌层的厚度不超过1um。

7.作为本实用新型铝合金pvd结构的一种改进,所述镀铜层的厚度为8~12um。

8.作为本实用新型铝合金pvd结构的一种改进,所述镀镍层的厚度为3~5um。

9.作为本实用新型铝合金pvd结构的一种改进,所述镀铬层的厚度不超过1um。

10.作为本实用新型铝合金pvd结构的一种改进,所述pvd镀层的厚度为8~12um。

11.本实用新型第二方面提供一种铝合金装饰件,包括上述铝合金pvd结构。

12.本实用新型第三方面提供一种电子设备,包括上述铝合金装饰件。

13.与现有技术相比,本实用新型铝合金pvd结构的有益效果在于:通过在铝合金基材的表面依次层叠镀锌层、镀铜层、镀镍层和镀铬层,使得金基材的表面硬度能逐层提高并达到可以进行pvd镀膜的程度,从而达到在铝合金的表面上形成pvd镀层的目的。

14.为使实用新型的上述目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举本实用新型较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下。

【附图说明】

15.为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可

以根据这些附图获得其他相关的附图。

16.图1为本实用新型提供的铝合金pvd结构的剖视图。

【具体实施方式】

17.为了使本实用新型的目的、技术方案和有益技术效果更加清晰明白,以下结合附图和具体实施方式,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解的是,本说明书中描述的具体实施方式仅仅是为了解释本实用新型,并不是为了限定本实用新型。

18.请参考图1,本实用新型第一方面提供一种铝合金pvd结构100。

19.在本实用新型的实施例中,铝合金pvd结构100包括铝合金基材10,铝合金基材10的表面依次设有镀锌层20、镀铜层30、镀镍层40、镀铬层50及pvd镀层60。

20.可以理解,通过镀锌层20、镀铜层30、镀镍层40和镀铬层50可以对铝合金基材10的表面进行逐层加硬,最终使得铝合金基材10的表面硬度可以达到能够进行pvd镀膜的程度。

21.其中,镀锌层20的厚度不超过1um,镀锌层20的目的是提高铝合金基材10的表面附着力,以方便层叠镀铜层30、镀镍层40和镀铬层50,而且镀锌层20还可以改善铝合金基材10的耐酸碱性,防止加工镀铜层30、镀镍层40和镀铬层50时对铝合金基材10造成腐蚀,在这里,镀锌层20可以通过化学镀锌的方式形成。

22.镀铜层30的厚度为8~12um,镀铜层30的目的是为了掩盖铝合金基材10表面的不良缺陷,如轻微划伤、轻微凹坑等,同时镀铜层30的还可以增加表面亮度,从而增加产品的美观度。

23.镀镍层40的厚度为3~5um,镀镍层40的目的是为了提高产品的耐磨、防锈和抗腐蚀性能。

24.镀铬层50的厚度不超过1um,镀铬层50的目的是为了提高产品表面的硬度和美观,且镀铬层50具有良好的化学稳定性,在碱和硫化物、硝酸和大多数有机酸均不发生作用,可以进一步地提高产品的耐磨、防锈和抗腐蚀性能,同时产品在使用时能长久保持反射能力,即镀铬层50也能提高产品的美观度。

25.pvd镀层60的厚度为8~12um。

26.需说明的是,镀铜层30、镀镍层40和镀铬层50均采用电镀形成。

27.接下来,为了方便理解本实用新型提供的铝合金pvd结构100,以下对铝合金pvd结构100的工艺流程进行简单说明:

28.步骤s1,取一铝合金基材10,对抛光后的铝合金基材10表面进行超声波清洗,以去除铝合金基材10表面的油脂。

29.步骤s2,通过化学镀锌的方法在铝合金基材10的表面形成镀锌层20,其中,化学镀锌的时间为1分钟,镀锌层20的膜层厚度不超过1um。

30.步骤s3,通过电镀铜的方法在镀锌层20上形成镀锌层20,其中,电镀铜的时间为10分钟,电流为80a,镀铜层30的膜层厚度为8~12um。

31.步骤s4,通过电镀镍的方法在镀铜层30上形成镀镍层40,其中,电镀镍的时间为5分钟,电流为80a,镀镍层40的膜层厚度为3~5um。

32.步骤s5,通过电镀铬的方法在镀镍层40上形成镀铬层50,其中,电镀铬的时间为1分钟,电流为200a,镀铬层50的膜层厚度不超过1um。

33.步骤s6,对形成镀锌层20、镀铜层30、镀镍层40与镀铬层50的铝合金基材10下挂烘干后进行pvd镀膜,以在镀铬层50上形成pvd镀层60,在这里,pvd的温度控制在145

°

~155

°

之间,pvd深锖色的时间为3h,pvd黑色的时间为4h,pvd镀层60的膜层厚度为8~12um。

34.综上所述,本实用新型提供的铝合金pvd结构100,通过在铝合金基材10的表面依次层叠镀锌层20、镀铜层30、镀镍层40和镀铬层50,使得金基材的表面硬度能逐层提高并达到可以进行pvd镀膜的程度,从而达到在铝合金的表面上形成pvd镀层60的目的。

35.本实用新型第二方面提供一种铝合金装饰件,该铝合金装饰件采用上述任一实施例中的铝合金pvd结构100,可以理解,该铝合金装饰件采用铝合金pvd结构100后,使得铝合金装饰件能够像液态金属和不锈钢一样在表面覆盖pvd镀层60,从而提高了铝合金装饰件的表面美观度。

36.本实用新型第三方面提供一种电子设备,该电子设备的电池盖上包括上述实施例中的铝合金装饰件,使得该电子设备的铝合金装饰件表面和转轴的不锈钢或者液态金属表面均可以覆盖pvd镀层60,从而提高电子设备的美观度并能避免铝合金装饰件与转轴之间出现色差的现象,应理解,该电子设备包括但不限于是手机、平板等电子产品。

37.本实用新型并不仅仅限于说明书和实施方式中所描述,因此对于熟悉领域的人员而言可容易地实现另外的优点和修改,故在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念的精神和范围的情况下,本实用新型并不限于特定的细节、代表性的设备和这里示出与描述的图示示例。技术特征:

1.一种铝合金pvd结构,其特征在于,包括铝合金基材,所述铝合金基材的表面依次设有镀锌层、镀铜层、镀镍层、镀铬层及pvd镀层;所述镀铜层的厚度为8~12um。2.根据权利要求1所述的铝合金pvd结构,其特征在于,所述镀锌层的厚度不超过1um。3.根据权利要求1所述的铝合金pvd结构,其特征在于,所述镀镍层的厚度为3~5um。4.根据权利要求1所述的铝合金pvd结构,其特征在于,所述镀铬层的厚度不超过1um。5.根据权利要求1所述的铝合金pvd结构,其特征在于,所述pvd镀层的厚度为8~12um。6.一种铝合金装饰件,其特征在于,包括权利要求1-5任一项所述的铝合金pvd结构。7.一种电子设备,其特征在于,包括权利要求6所述的铝合金装饰件。

技术总结

本实用新型公开一种铝合金PVD结构,包括包括铝合金基材,所述铝合金基材的表面依次设有镀锌层、镀铜层、镀镍层、镀铬层及PVD镀层。本实用新型还公开一种包括上述铝合金PVD结构的铝合金装饰件以及包括该铝合金装饰件的电子设备。与现有技术相比,有益效果在于:通过在铝合金基材的表面依次层叠镀锌层、镀铜层、镀镍层和镀铬层,使得金基材的表面硬度能逐层提高并达到可以进行PVD镀膜的程度,从而达到在铝合金的表面上形成PVD镀层的目的。合金的表面上形成PVD镀层的目的。合金的表面上形成PVD镀层的目的。

技术研发人员:李育才 张军民

受保护的技术使用者:闻泰通讯股份有限公司

技术研发日:2021.08.16

技术公布日:2023/1/12
声明:
“铝合金PVD结构、铝合金装饰件及电子设备的制作方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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