一种低电阻层状结构正交相MoO
3‑x薄膜的制备方法,包括如下步骤:步骤1:利用真空蒸发法在衬底上形成薄膜;步骤2:将所述薄膜在大气气氛中进行第一步热处理;以及步骤3:将所述薄膜在氮气气氛中进行第二步热处理,完成制备。本发明具有制造工艺简便等优点;该方法是采用真空蒸发法制膜并加以两步热处理,可以获得既具有层状结构又具有较低电阻率的α‑MoO
3‑x薄膜材料;该材料可广泛地应用于双电层电容器、锂离子电池、有机光电二极管、薄膜
太阳能电池等光电子器件。
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“低电阻层状结构正交相MoO3-x薄膜的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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