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低电阻层状结构正交相MoO3-x薄膜的制备方法

736   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:25:34
一种低电阻层状结构正交相MoO3‑x薄膜的制备方法，包括如下步骤：步骤1：利用真空蒸发法在衬底上形成薄膜；步骤2：将所述薄膜在大气气氛中进行第一步热处理；以及步骤3：将所述薄膜在氮气气氛中进行第二步热处理，完成制备。本发明具有制造工艺简便等优点；该方法是采用真空蒸发法制膜并加以两步热处理，可以获得既具有层状结构又具有较低电阻率的α‑MoO3‑x薄膜材料；该材料可广泛地应用于双电层电容器、锂离子电池、有机光电二极管、薄膜太阳能电池等光电子器件。
声明：
“低电阻层状结构正交相MoO3-x薄膜的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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