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溅射靶和生产溅射靶的方法

764   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:32:07
本发明涉及一种用于物理气相沉积方法的靶材，其具有由选自铝基材料、钛基材料和铬基材料及其全部组合的复合材料组成的基质，其中所述基质是用掺杂元素掺杂的，并且所述掺杂元素是作为陶瓷化合物或者铝合金的成分而嵌入所述基质中的，以及所述掺杂元素选自镧系元素：La、Ce、Nb、Sm和Eu。本发明还涉及一种生产这样的靶材的方法和这样的靶材在物理气相沉积方法中的用途。
声明：
“溅射靶和生产溅射靶的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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