权利要求
1.一种圆棒形高纯铜靶材的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)真空熔铸、上引连铸
将电解铜放入真空熔炼炉中,升温熔清后,继续升温开始精炼,抽真空后,破真空,将铜水倒入上引连铸炉的装置内,通过上引连铸生产铜杆;
(2)预热
对模具以及铜杆的一段坯料进行预热;
(3)第一道次连续挤压
将预热后的铜杆进行第一道次连续挤压,转速设定为3.5-4r/min,挤压比为3-4,挤压成Φ20mm-Φ25mm的铜杆;
(4)第二道次连续挤压
将经第一道次连续挤压的铜杆进行第二道次连续挤压,转速设定为1.5-2.5r/min,挤压比为4-5,挤压成Φ20mm-Φ25mm的铜杆;
(5)第三道次连续挤压
将经第二道次连续挤压的铜杆进行第三道次连续挤压,转速设定为2.5-3r/min,挤压比为1-2,挤压成Φ50mm-Φ60mm的成品铜杆。
2.根据权利要求1所述圆棒形高纯铜靶材的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,抽真空的时间为10-30min。
3.根据权利要求1所述圆棒形高纯铜靶材的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,模具预热温度为450-500℃;一段坯料的预热长度为500-1000mm,一段坯料预热温度为600-700℃。
4.根据权利要求1所述圆棒形高纯铜靶材的制备方法,其特征在于,步骤(3)、(4)、(5)中,模腔温度为600-650℃。
5.根据权利要求1所述圆棒形高纯铜靶材的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,包括以下具体步骤:将电解铜放入真空熔炼炉中,升温到1100-1200℃直至炉料全部熔清,继续升温到1300-1400℃开始精炼,抽真空10-30min后,充入氮气破真空,在铜水上覆盖木炭,将铜水倒入上引连铸炉的坩埚内,通过上引连铸生产铜杆。
说明书
技术领域
[0001]本发明属于冶金工艺技术领域,尤其涉及一种圆棒形高纯铜靶材的制备方法。
背景技术
[0002]随着电子信息和高新技术产业的发展,集成电路作为信息产业发展的基础和核心,一直受到国家的高度重视。其中铜靶材因具
声明:
“圆棒形高纯铜靶材的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)