权利要求
1.一种平面铜靶材的制备方法，其特征在于，包括：
步骤S1：制备高纯无氧铜杆;
步骤S2：连续挤压所述无氧铜杆以形成坯料，并在挤压过程中对所述坯料进行防氧化保护;
步骤S3：待所述坯料冷却至室温后进行单道次低变形量拉拔操作，控制拉拔变形量为1.5%-3%，控制拉拔变形温度在300℃-500℃;
步骤S4：重复上述步骤S2和步骤S3至少两次;
步骤S5：对坯料进行矫直操作;
步骤S6：对坯料进行机加工操作，制成铜靶材。
2.根据权利要求1所述的平面铜靶材的制备方法，其特征在于，在步骤S2中，使用连续挤压机进行连续挤压操作，使用防氧化冷却循环装置使所述坯料冷却至室温。
3.根据权利要求2所述的平面靶材的制备方法，其特征在于，所述连续挤压机内设有挤压轮、和挤压模具，所述挤压轮转速为2-3r/min;
所述挤压模具包括上模具(41)和下模具(42)，所述上模具(41)和下模具(42)可拆卸连接，形成模具入口(43)和模具出口，所述上模具(41)与下模具(42)之间设有相互契合为半圆形的上支凸起结构(44)和下支凸起结构(45)，所述上支凸起结构(44)和下支凸起结构(45)之间存有矩形间隙;所述挤压模具出口处设有不等宽斜面。
4.根据权利要求1所述的平面铜靶材的制备方法，其特征在于，在步骤S1中，使用上引连铸法制备高纯无氧铜杆，具体操作为：以电解铜为生产原料，将原料投入熔炼炉中，通入惰性保护气体，采用上引连铸炉用无氧铜住坯结晶器进行无氧铜杆的成型。
5.根据权利要求1所述的平面铜靶材的制备方法，其特征在于，在步骤S6中，使用数控机床进行机加工操作，包括：粗盘面、粗铣、倒角、精铣和精盘面，其中粗盘面、粗铣和倒角中单次铣削吃刀量低于0.2mm，精铣和精盘面中单次吃刀量为0.05mm。
6.一种应用权利要求1-5中任一项所述的平面铜靶材的磁控溅射方法，其特征在于，包括：
步骤1：将铜靶材与背板结合，得到溅射靶材，再测量背板底面的平整度，并对该溅射靶材进行探伤;
步骤2：对合格后的溅射靶材进行粗打磨处理，并对该溅射靶材上非预喷砂区域进行防护;
步骤3
声明：
“平面铜靶材的制备方法及应用其的磁控溅射方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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编辑：中冶有色网
来源：芜湖映日科技股份有限公司
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2025年05月08日 ~ 10日 
