权利要求
1.一种均匀下料的回转窑,包括回转窑本体(16),其特征在于,还包括均匀下料装置(20),所述均匀下料装置(20)包括机壳(8),所述机壳(8)上对应回转窑本体(16)的焙料出口设置有聚料斗(2),所述聚料斗(2)的底部设有出料口(22),所述聚料斗(2)用于聚集通过回转窑本体(16)的焙料出口排出的焙料;所述机壳(8)的内部滑动安装有下料斗(11),所述下料斗(11)位于任一滑动位置时,所述出料口(22)始终与下料斗(11)上下对应布置;所述机壳(8)上位于下料斗(11)的一侧设置有驱动装置,所述驱动装置用于驱动下料斗(11)往复运动。
2.根据权利要求1所述的均匀下料的回转窑,其特征在于,所述驱动装置包括翅片轮(12)、换向辊(3)、连接杆(6);
所述翅片轮(12)转动安装在聚料斗(2)与下料斗(11)之间,所述翅片轮(12)上环形阵列布置有若干个翅片(121),所述出料口(22)位于翅片轮(12)侧部的上方,所述出料口(22)正下方的出料路径与翅片(121)的旋转路径的竖直切线重合;
所述换向辊(3)转动安装在机壳(8)上,所述换向辊(3)的外侧壁上设置有环绕换向辊(3)周向布置的第一正弦滑槽(31),所述换向辊(3)的一端与翅片轮(12)传动连接;
所述连接杆(6)滑动安装在机壳(8)上,所述连接杆(6)一端与下料斗(11)连接,所述连接杆(6)的另一端设有第一滑块(10),所述第一滑块(10)滑动设置在第一正弦滑槽(31)的内部。
3.根据权利要求2所述的均匀下料的回转窑,其特征在于,所述第一正弦滑槽(31)的波峰位于换向辊(3)的左侧部,所述第一正弦滑槽(31)的波谷位于换向辊(3)的右侧部,所述第一正弦滑槽(31)的波峰和波谷在换向辊(3)上相对布置。
4.根据权利要求3所述的均匀下料的回转窑,其特征在于,还包括位于出料口(22)与下料斗(11)之间的下料通道(9),所述下料通道(9)的顶部与出料口(22)接通,所述下料通道(9)的底部对应下料斗(11)设置,所述翅片轮(12)上一侧的翅片(121)位于下料通道(9)内,所述下料通道(9)内部预留有供翅片轮(12)与翅片(121)旋转的空间。
5.根据权利要求3所述的均匀下料的回
声明:
“均匀下料的回转窑、锂辉石转型焙烧系统及焙烧方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)