权利要求
1.一种金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,包括以下步骤:
S1.使用化学气相沉积法在铜薄膜表面沉积石墨烯,制得石墨烯/铜材料;
S2.在步骤S1所述石墨烯/铜材料上沉积金属薄膜;
S3.对步骤S2所得材料进行热处理,使金属薄膜与石墨烯/铜界面相结合,制得高导电石墨烯/铜金属材料。
2.根据权利要求1所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,步骤S1所述铜薄膜的厚度为500nm~5μm。
3.根据权利要求1所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,步骤S2所述沉积方法包括电子束蒸发镀膜、磁控溅射镀膜或热蒸发中的一种。
4.根据权利要求3所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,所述电子束蒸发镀膜工艺中铜的沉积速率为0.2~50nm/s;所述磁控溅射镀膜工艺中铜的沉积速率是2~100nm/s;所述热蒸发工艺中铜的沉积速率为1~10nm/s。
5.根据权利要求1所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,步骤S2所述金属薄膜包括Ti、Ni、Co、Cr中的一种或几种。
6.根据权利要求5所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,所述金属薄膜为Ti。
7.根据权利要求1所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,步骤S2所述金属薄膜的厚度为1~5nm。
8.根据权利要求1所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,步骤S3所述热处理温度为600~800℃,所述热处理时间为30~60min。
说明书
技术领域
[0001]本发明属于高导电材料领域,特别涉及一种金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法。
背景技术
[0002]随着科技的进步,对高导电材料的需求不断增长。发展高导电铜材料有助于满足市场需求,推动相关产业的发展,从而创造更多的经济价值和社会效益。现阶段,超高导电铜材料的研究取得了一定的进展,但由于制备工艺和性能的不稳定等
声明:
“金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)