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金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法

159   编辑:中冶有色网   来源:中国科学院上海微系统与信息技术研究所  
2025-11-03 15:12:15
权利要求 1.一种金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,包括以下步骤: S1.使用化学气相沉积法在铜薄膜表面沉积石墨烯,制得石墨烯/铜材料; S2.在步骤S1所述石墨烯/铜材料上沉积金属薄膜; S3.对步骤S2所得材料进行热处理,使金属薄膜与石墨烯/铜界面相结合,制得高导电石墨烯/铜金属材料。 2.根据权利要求1所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,步骤S1所述铜薄膜的厚度为500nm~5μm。 3.根据权利要求1所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,步骤S2所述沉积方法包括电子束蒸发镀膜、磁控溅射镀膜或热蒸发中的一种。 4.根据权利要求3所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,所述电子束蒸发镀膜工艺中铜的沉积速率为0.2~50nm/s;所述磁控溅射镀膜工艺中铜的沉积速率是2~100nm/s;所述热蒸发工艺中铜的沉积速率为1~10nm/s。 5.根据权利要求1所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,步骤S2所述金属薄膜包括Ti、Ni、Co、Cr中的一种或几种。 6.根据权利要求5所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,所述金属薄膜为Ti。 7.根据权利要求1所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,步骤S2所述金属薄膜的厚度为1~5nm。 8.根据权利要求1所述的金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法,其特征在于,步骤S3所述热处理温度为600~800℃,所述热处理时间为30~60min。 说明书 技术领域 [0001]本发明属于高导电材料领域,特别涉及一种金属元素界面调控石墨烯/铜制备高导电金属材料的方法。 背景技术 [0002]随着科技的进步,对高导电材料的需求不断增长。发展高导电铜材料有助于满足市场需求,推动相关产业的发展,从而创造更多的经济价值和社会效益。现阶段,超高导电铜材料的研究取得了一定的进展,但由于制备工艺和性能的不稳定等
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