995 主要技术要求
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1:控制方式 |
7寸人机界面 手动模式 自动模式 晶控模式(需配膜厚仪) |
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2:镀膜方式 |
真空电阻加热式热蒸发镀膜 |
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3:镀膜功能 |
0-999秒可变换功率 及挡板复位和样品旋转等程序控制 |
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4:最大功率 |
≤1200W(电压≤12V 电流≤150A) |
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5: 极限真空 |
机械泵 ≤1Pa(5分 钟) 分子泵≤5*10^-3Pa(30分钟) |
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6:挡板类型 |
电控 |
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7:真空腔室 |
高鹏硅玻璃罩+铝合金腔体样品台Ф160mm×170mm |
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8:样品台 |
快速插拔式 可旋转φ75 (最大可安装φ70样品) |
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9:样品台转速 |
0-8转/分钟 |
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10:样品靶材距离 |
40-70mm(可调节) |
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11:蒸发温度 |
≤1800℃ |
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12:蒸发坩埚类型 |
钨舟 陶瓷坩埚 石英坩埚 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 碳绳等 |
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13:真空测量 |
电阻真空计(测量范围10E5Pa 1E-1Pa ) |
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14:预留真空腔室接口 |
KF40/KF25抽气口 KF16真空计接口Q15放气口 可扩展膜厚测量口 |
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15:产品重量 |
约16KG |
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可选配扩展(选配) |
①机械真空泵抽速8mm3/h(单设备≤1Pa(5分钟) |
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②分子泵机组(单设备可抽真空30分钟≤5*10^-3Pa) |
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③膜厚仪:(厚度范围0-10000A 厚度显示分辨率1A 速率范围0-999.9A 速率显示分辨率0.1A 晶振频率6MHz) |
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主要配置要求 |
小型蒸镀仪 KT-Z1650CVD 主机1台 电源线 合格证 说明书 保修卡各一个 |