设备名称
光注入退火炉
设备型号
SC-LED05L/RA
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司光注入退火炉设备用途
调节电池片费米能级变化,控制H总量及价态,提高H钝化与缺陷修复效率,达到降低P型电池衰减效应,提高N型电池转换效率的效果。
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司光注入退火炉工艺流程
预热→光注入→冷却
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司光注入退火炉技术特点
1、双轨产线,机架电气完全独立,互不干扰。
2、大产能:匹配丝印工序产能,CT≤0.80秒,基于硅片尺寸M10(18X±0.5mm*18X±0.5mm)。
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司光注入退火炉设备参数
型号 Model:SC-LED05L/RA
硅片尺寸(mm)Wafer Size:156/166/18X/210/230可选optional
Uptime:≥99%
破片率 Breakage Rate:≤0.01%
外形尺寸(mm) Footprint:11600 (L)x1300 (W) x2220 (H)(不含排废,指示灯Excl. exhaust & indicator light )
产能 Throughput:≥4500片/小时、≥4500Pcs/h
功率消耗 Power Consumption:≤50KWx2台