上海上海有色金属设备

哈氏合金反应釜 300     

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哈氏合金反应釜是一种功能强大、耐蚀性优良的密闭容器，广泛应用于化工、石油化工、烟气脱硫、纸浆和造纸、环保等工业领域。它的出色性能和高度可定制性使其成为实验室和工业生产中的重要设备。这种高压釜在多个领域有着广泛的应用，包括原子吸收光谱、等离子发射等分析中的溶样预处理，以及小剂量的合成反应。通过利用罐体内强酸或强碱且高温高压密闭的环境，哈氏合金反应釜能够实现难溶物质的快速消解。

1400℃搅拌提拉炉 272     

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SJL-1400Z揽拌提拉炉由上开式高温炉、手动旋转结构、自动升降及搅拌平台、智能化触摸屏控制系统等组成，可实现1300℃以下晶体的缓慢提拉生产。该产品采用智能化触摸屏控制，提拉速度可精确调整控制，精度可达0.01mm/ec;炉体为上开门式结构，炉体上盖部分采用独特的手提式保温盖，方便观察炉膛内情况。

高真空CVD系统 253     

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上海钜晶生产的高真空CVD系统（型号：CVD-1700）是一款高性能的化学气相沉积设备，专为科研和工业应用设计。该系统由高温管式炉、高真空扩散泵/分子泵系统、多通道高精度数字质量流量控制系统和自动压强控制系统等组成，能够实现高真空度0.001—0.0001Pa的混合气体环境，适用于多种材料的生长和制备，如半导体材料、纳米材料、薄膜材料等。

1200℃全自动七温区CVD系统 259     

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上海钜晶提供的1200℃全自动七温区CVD系统（型号：CVD-1200-Ⅷ）是一款先进的高温电炉设备，专为化学气相沉积工艺设计。该系统具备加长温区和多温区的特点，能够满足全自动CVD系统的需求，适用于高温电炉、管式炉等应用。设备采用先进的温控系统，确保温度控制精确，加热元件为0Cr27Al7Mo2，工作电源为AC220V 50HZ/60HZ，额定功率4KW，最高温度可达1200℃，恒温精度±1℃，加热区长度440mm或220mm/220mm，升温速度≤20℃/min，密封方式为不锈钢快速法兰挤压密封。

1200℃大管径CVD系统 254     

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上海钜晶提供的1200℃大管径CVD系统（型号：CVD-1200）是一款专业的高温电炉，适用于进行大管径管式炉的热处理作业。这款设备特别适用于高温气氛炉中的真空气氛炉操作，可用于气氛保护烧结、气氛还原和退火等多种工艺过程。CVD系统由供气系统+管式炉+抽气系统组成，最高温度可以达到1200度、1400度、1600度、1700度，加热区间可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10^-3^Pa。

CVD-1200系统 269     

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CVD-1200系统由开启式单(双)温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。

CVD-1700浮子混气系统 248     

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CVD-1700系统由SGL-1700真空管式炉，HQF-Ⅲ浮子混气系统，内置测温系统及真空系统等组成。此系统烧结温度可达1700℃:真空泵采用双极旋片真空泵，真空度可达到5x10-1Pa;可实现不同的1~3路气体混合;内置测温系统可实时监测反应管内的温度变化。

1200℃真空气氛箱式炉 243     

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1200℃真空气氛箱式炉是我司研发改进的新款产品，可视化的7寸大触摸屏，程序设置更快捷,设备运行状态更直观，本款产品集成了加热系统，混气系统，真空系统，内循环水冷却系统，监测系统，都可通过控制按钮一键操作。本机功能全面，满足客户绝大部分要求。

1400°C精密气氛箱式炉 281     

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1400℃精密真空气氛炉是我司研发改进的新款产品，可视化的7寸大触摸屏，程序设置更快捷,设备运行状态更直观，本款产品集成了加热系统，混气系统，真空系统，内循环水冷却系统，监测系统，都可通过控制按钮一键操作。本机功能全面，满足客户绝大部分要求。

全自动真空气氛炉 253     

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上海钜晶提供的1700℃全自动真空气氛炉（型号：SQFL-1700A）是一款先进的电炉设备，专为气氛保护烧结、气氛还原、退火等工艺设计。该炉能够实现全自动操作，具备高精度控温系统，确保工艺过程的稳定性和重复性。设备采用优质硅钼棒作为加热元件，配备B型热电偶进行温度测量，且炉膛结构采用日本技术真空吸附成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，保温性能优越。此外，该炉还预留了485转换接口，可通过选配软件与计算机联接，实现单台或者多台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能。

1700℃超值气氛箱式炉 337     

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1700℃超值真空气氛炉采用智能化程序控温系统，控温精度高。本款产品具备有加热系统，监测系统。预留有路进气接口，真空系统接口，内循环水冷却系统接口，都可快速连接使用。本机功能强大，操作简便，满足客户绝大部分要求。

1000℃真空气氛搅拌炉 253     

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1000℃真空气氛搅拌炉是我所研发改进的新款产品，可在高真空或在气氛环境下对物料进行搅拌，满足客户的实验要求;本款产品集成了升降搅拌系统，磁力密封系统，温控系统，混气系统，真空系统等，可通过控制按钮一键操作完成。

1100℃高真空气氛炉 257     

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1100℃高真空气氛炉以掺钼电阳丝为加热元件，采用双层壳体结构和智能化控温系统，可控控制,控温精度高内胆采用耐温、耐压合金材料:炉门配有循环水冷，保证炉门与炉胆的可靠密封;可选配真空装置，可以通气氛抽真空。

真空气氛炉 275     

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该产品是我公司研发的功能强大的真空气氛炉，集成了加热系统、真空系统、电气控制系统、温度及真空监测系统等，7寸触摸屏智能化系统，可实现一键操作智能化控制。

义齿烧结炉 283     

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义齿烧结炉/升降气氛炉为我公司自主研发的功能强大的加热设备，主要应用于义齿加工行业的氧化锆烧结，也可用于粉末冶金行业的高温材料在保护气氛下烧结与退火。该产品采用进口硅钼棒加热，炉体为下装载自动升降结构，造型新颖，结构科学、合理，是高温材料烧结领域的主流设备。

1100℃坩埚炉 305     

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1100℃坩埚炉以掺钼电阻丝为加热元件，炉膛采用进口氧化铝多品纤维材料，保温性能好，耐用，拉伸强度高，无杂球，纯度高，节能优于国内纤维材料，炉体采用双层炉壳，使炉壳外表面温度更低;加热釜采用耐温、耐腐合金材料;水冷法兰密封，气密性能好;釜盖配有电极监测入孔，可根据电极的电流监测釜内反应情况;是电化学反应的理想加热器。

1700°C升降气氛炉 277     

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上海钜晶品牌提供的1700°C升降气氛炉（型号：SJQL-1700）是一款专为高温电炉、义齿烧结炉、升降炉和气氛烧结炉设计的设备。该设备主要用于精密铸件、变压器、高压电机及陶瓷复合材料等的真空-压力浸渍处理，广泛应用于电子元器件、建筑材料、食品、纺织等领域。升降气氛炉具备优良的耐压性和密封性，配有安全防护系统以防止误操作，同时拥有单独的输漆、回漆管路以避免漆污染，以及高效的尾气处理系统来处理残余尾气，确保操作安全。

1700℃坩埚升降炉 277     

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1700℃坩埚升降炉由炉体，过渡区，炉门丝杆下降系统及支架等组成。高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛，钼棒圆周形分布，使温场更均匀:坩埚升降部分采用无级调速电机控制丝杆调节，上下限采用限位开关控制，保证坩埚运行的平稳、安全。

高温升降气氛炉 204     

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高温升降气氛炉为我公司自主研发的功能强大的加热设备，主要应用于义齿加工行业的氧化锆烧结，也可用于粉末治金行业的高温材料在保护气氛下烧结与退火。该产品采用进口硅钼棒加热，炉体为下装载自动升降结构，造型新颖，结构科学、合理，是高温材料烧结领域的主流设备。

1100℃多工位回转炉 207     

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1100℃多工位回转炉由炉体、升降组件、炉管旋转组件等组成。烧结过程中炉管可旋转，实验完成后可将炉体可倾斜，取料更加方便、快捷;炉管采用耐高温合金加工而成，可抽真空，通气氛，承受一定的正压;炉体为双层炉壳，采用当前流行的空气隔热技术配合感应热技术驱动智能化风冷系统，快速有效的降低外壳温度。

1200℃可倾斜旋转管式炉 277     

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1200℃可倾斜旋转管式炉是我公司新开发的一款自动化程度较高的实验烧结设备;采用触摸屏及PLC控制系统键智能化操作，图文界面操作简单、便捷:炉体可倾斜，炉管可连续旋转;管内壁有石英挡片帮助粉料翻转，有助于烧结的更均匀;上盖可开启，实现快速降温。

1200℃立式开启式管式炉 271     

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1200℃立式开启式管式炉采用智能化程序控温系统，可控控制，控温精度高;双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温度:开启式炉盖设计，可在高温情况下观察物料反应情况并实现迅速降温;真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛:炉体处于立式工作位置。

小型立式管式炉 270     

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1200℃小型立式管式炉采用智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高;双层壳体结构，设计合理，外形美观，结构紧凑;双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温度;真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛。

1200℃超值多工位管式炉 267     

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SZGL-1200C多工位真空管式炉以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构，设计合理，外形美观，结构紧凑;可在水平或者垂直工位下工作，满足不同实验需要，大大提高了其使用范围;结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛。

双温区滑动式管式炉 267     

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1200℃双温区滑动式管式炉是为生长石墨烯研制的专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。炉体采用开启式结构，内置两个温区，可以营造不同的温度梯度;炉底安装有直线滑轨，当石墨烯生长结束后，左右拉动炉体能够保证有足够的空间使实验样品移出炉体，实现快速隆温的要求。

三温区开启式管式炉 261     

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1200℃三温区开启式管式炉采用智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高;双层炉壳间配有风冷系统，有效降低外壳表面温度;开启式炉盖设计，可在高温情况下观察物料反应情况并实现迅速降温;真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛;内置三个温区，可以营造不同的温度梯度。

1200℃五温区开启式管式炉 261     

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1200℃五温区开启式管式炉采用智能化程序温控系统，可控硅控制，控温精度高;双层炉壳间配有风冷系统，有效降低外壳表面温度:开启式炉盖设计，可在高温情况下观察物料反应情况并实现迅速降温:真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛:内置五个加热温区，可以营造不同的温度梯度。

小型四通道管式炉 260     

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上海钜晶提供的小型四通道管式炉是一款适用于多种材料高温处理的设备，能够满足不同工艺需求。该设备以1700型优质硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，可控硅控制，确保了控温精度高。双层炉壳间配有风冷系统，有效降低炉壳表面温度，同时结合标准真空、混气系统，可抽真空通气氛，为实验提供了灵活的操作环境。该设备接受定制服务，可根据客户的具体要求进行个性化设计和制造，以满足特定的实验或生产需求。

1700℃精密真空气氛管式炉 242     

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SGL-1700精密型真空管式炉采用触摸屏控制系统，一键智能化操作，图文界面操作更便捷;高真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛。适用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。

1700℃超值管式炉 255     

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1700℃超值管式炉以1700型优质硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高:双层炉壳间配有风冷系统，有效降低炉壳表面温度;结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛。