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电转炉是一种以电为热源的工业炉。它常用于各种材料的煅烧和干燥，包括磷酸铁、磷酸铁锂、锰酸锂、阴极石墨、三氧化钴、阴极硅碳、氢氧化锂、粉末除碳、氧化锌、氧化铁、氧化锰、稀土材料和有色金属。该炉的特点是加热速度快、能效高、经久耐用。它采用镍基合金炉管，可承受高达 1100℃ 的连续工作温度，确保了使用寿命和可靠性。此外，该炉采用优质碳化硅（SiC）加热元件，可延长使用寿命并简化维护。
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垂直管式炉是一种实验室设备，用于在受控大气条件下对材料进行高温处理。它由一根垂直方向的石英管组成，石英管封闭在一个加热室内，可以实现精确的温度控制和均匀的热量分布。这些炉子通常用于各种应用，包括热处理、淬火、退火、晶体生长和化学气相沉积（CVD）涂层。立式管式炉具有可编程温度控制器、真空密封功能和用于样品处理的专用附件等先进功能，为材料加工提供了多功能性和精确性。垂直管式炉能够产生可控气氛并达到高温，是研发、材料科学和工业应用领域的重要工具。
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氢气气氛炉的结构采用了加热室整体真空密封技术，隔热室和加热元件均内置在一个加强型真空室中，其结构类似于真空手套箱的设计，操作人员可使用真空泵将室内空气吸尽，直至负压为-0.1Mpa，然后将惰性气体涌入室内，以达到良好的可控气氛环境。KT-AH 型氢气气氛炉是一种感应气体气氛炉，可使用氢气进行烧结或退火工艺。氢气炉的绝缘材料为多晶陶瓷纤维，加热元件为高纯度钼丝加热器，炉内装有氢气安全泄漏检测器和排放氢气自动点火装置。
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网带式可控气氛炉是一种可在露天和可控气氛环境中工作的连续式生产炉。它主要用于厚膜电路、电阻器、电容器和电感器等电子元件的高温烧结工艺。该炉采用精选陶瓷纤维加热器，反应迅速，温度均匀；采用轻质陶瓷纤维隔热材料，能耗低；采用网带传动系统，传动稳定；采用多独立温度热区控制，调节灵活。它还可选配网带超声波清洗系统和中央计算机控制装置。该炉可进行定制，以满足特定的工艺要求，包括气氛、温度和产量。
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KT-PE16 倾斜旋转式 PECVD 炉 PECVD 炉由一个 500W 射频等离子源、一个双区 TF-1200 管式炉、4 个 MFC 气体精确控制单元和一个标准真空站组成。炉子的最高工作温度可达 1600℃。工作温度高达 1600℃，炉管为直径 60mm 的 Al2O2 陶瓷管；4 通道 MFC 质量流量计，气源为 CH4、H2、O2 和 N2；真空站为 1 台 4L/S 旋片真空泵，最大真空压力为 10Pa。
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KT-PE12 带液体气化器的滑动 PECVD 系统由一个 500W 射频等离子源、一个 TF-1200 滑动炉、4 个 MFC 气体精确控制单元和一个标准真空站组成。炉腔轨道滑动系统，可实现快速加热和快速冷却，可选配辅助强制空气循环风扇，加快冷却速度；可选配滑动自动工作装置；最高工作温度可达 1200℃。工作温度最高可达 1200℃，炉管为一根直径 60 毫米的石英管；4 通道 MFC 质量流量计，气源为 CH4、H2、O2 和 N2；真空站为一台 4L/S 旋片真空泵，最大真空压力可达 10P。真空压力可达 10Pa。
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KT-CTF14 多区 CVD 炉有 2 个加热区，最高工作温度可达 1200℃，炉管为直径 60mm 的石英管；4 通道 MFC 质量流量计，气源为 CH4、H2、O2 和 N2；真空站为 4L/S 旋片真空泵，最大真空压力可达 10Pa。真空压力可达 10Pa。
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带真空站的分体式 CVD 管式炉是一款多功能、高性能的实验室设备，专为化学气相沉积 (CVD) 应用而设计。它采用分体式炉腔，便于接触反应样品和快速冷却。炉管由高温石英制成，直径为 60 毫米。该系统包括一个 4 通道 MFC 质量流量计，配有 CH4、H2、O2 和 N2 源气体，可对气体流速进行精确控制。真空站采用 4L/S 旋片真空泵，最大真空压力为 10 Pa。带真空站的分室 CVD 管式炉具有先进的功能和性能，是材料科学、半导体加工和其他领域各种研发应用的理想选择。
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陶瓷纤维内衬真空炉是一种使用陶瓷纤维作为隔热内衬的真空炉。陶瓷纤维是一种轻质多孔材料，具有出色的隔热性能。因此，它是用于真空炉的理想材料，有助于减少热量损失和提高温度均匀性。
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2025年05月09日 ~ 11日 
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