有色金属冶金设备

1.5吨真空感应熔炼炉 1366     

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RVI-1.5T真空熔炼炉, 采用立式结构，由熔炼室、加料室、测温装置、合金添加装置、真空系统、控制系统、熔炼系统、水冷系统、操作平台等组成，可以在不破坏熔室真空的情况下装放炉料、加合金料、取出钢锭或铸件等，实现连续作业，提高工作效率.同时该炉可浇注多个模具，加料室和测温室采用电动平移式，可全部自动化操作。

液环真空泵及压缩机2BEA353 1243     

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2BE系列液环真空泵及压缩机用于抽吸不含固体颗粒，不溶于水，无腐蚀性的气体，以便在密封容器中形成真空和压力。 通过改变结构材料，亦可用于抽吸腐蚀气体或以腐蚀液体作工作液。 广泛用于造纸、化工、轻工、石化、制药、食品、冶金、建材、电器、洗煤、选矿、化肥等行业。

金属油扩散泵TK-500 1290     

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金属油扩散泵是利用低压、高速和定向流动的油蒸汽射流抽气的真空泵，是获得高真空的主要设备，广泛用于真空冶炼、真空镀膜、空间模拟实验和对油污染不敏感的一些真空系统中。

滑阀真空泵H-150&150A 1677     

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滑阀真空泵广泛应用于太阳能、单晶生产炉制药、电子、冶炼、陶瓷、航空、实验室等多种场合，真空镀膜、真空干燥、真空脱气、真空浸渍、真空烧结、真空热处理、真空浓缩、真空反应、真空模拟试验等真空作业上。

升降炉 1760     

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升降炉（烧结炉）作为周期性生产窑炉，专门设计用于电子陶瓷元件、磁性材料、陶瓷材料、纳米粉体等产品的预烧和烧结，以及特种陶瓷元件在保护气氛下的烧结工艺，也可满足ITO靶材高温烧结蓝宝石、石英制品的退火工艺。窑炉具有控温稳定、温度均匀、产量大、节能等特点，非常适合于企业的大批量生产之用。

台车炉 1566     

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本系列全纤维中温台车式电阻炉是国家标准节能型周期式作业炉，主要用于铸钢件、汽车零部件、轧辊、钢球、金属结构件、焊接件去应力、时效以及各种机械零件热处理之用。

井式炉 1841     

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全纤维井式炉外壳与一般井式炉结构相似，炉衬保温由高纯陶瓷纤维高压模块保温。发热元件采用加宽型0Cr27Al7Mo2电阻带，长寿命设计，发热效率高、保温性能好、常年持续生产无断裂。

回转炉 1266     

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该回转窑用于粉体物料的煅烧。采取外加热方式，滚筒转速、倾角、给料速度、滚筒内气氛可调，炉膛温度自动控制。整体支座结构，可以整体起吊、运输。

VHT真空回火炉 1554     

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VHT真空回火炉适用范围：磁性材料、不锈钢、有色金属等材料的光亮回火。特别适用于对长杆形零件、轴类、板类零件等大型易变形工件的真空回火工艺。

真空脱脂炉 1454     

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真空脱脂炉特点：脱气，脱蜡，烧结连续处理：因炉内设有密封箱，脱脂时的蜡挥发物不会粘着在炉壁及断热层，而是被排出炉外，防止污染。

真空炉 1224     

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该真空炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，主要应用于氮化铝粉体制备等在真空或反应气氛中高温烧结，也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

氮化铝粉体制备真空炉 1304     

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该真空炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，主要应用于氮化铝粉体制备等在真空或反应气氛中高温烧结，也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

A4氢气炉 1619     

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氢气炉可用于特殊合金、陶瓷材料、贵金属材料等在保护气氛下进行烧结、热处理、熔化与浇铸。可为特种陶瓷、电子陶瓷、结构陶瓷、功能陶瓷、压电陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色荧光粉、抛光粉、金属热处理等行业提供 300 ～ 1700 ℃温度范围的各种加热条件。

A4氮气炉 1701     

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氮气炉可用于特殊合金、陶瓷材料、贵金属材料等在保护气氛下进行烧结、热处理、熔化与浇铸。可为特种陶瓷、电子陶瓷、结构陶瓷、功能陶瓷、压电陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色荧光粉、抛光粉、金属热处理等行业提供 300 ～ 1700 ℃温度范围的各种加热条件。

A2气氛炉 1599     

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气氛炉可用于特殊合金、陶瓷材料、贵金属材料等在保护气氛下进行烧结、热处理、熔化与浇铸。可为特种陶瓷、电子陶瓷、结构陶瓷、功能陶瓷、压电陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色荧光粉、抛光粉、金属热处理等行业提供 300 ～ 1700 ℃温度范围的各种加热条件。

A2氢气炉 1457     

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氢气炉可用于特殊合金、陶瓷材料、贵金属材料等在保护气氛下进行烧结、热处理、熔化与浇铸。可为特种陶瓷、电子陶瓷、结构陶瓷、功能陶瓷、压电陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色荧光粉、抛光粉、金属热处理等行业提供 300 ～ 1700 ℃温度范围的各种加热条件。

1300℃气氛烧结炉 1527     

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气氛烧结炉可用于特殊合金、陶瓷材料、贵金属材料等在保护气氛下进行烧结、热处理、熔化与浇铸。可为特种陶瓷、电子陶瓷、结构陶瓷、功能陶瓷、压电陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色荧光粉、抛光粉、金属热处理等行业提供 300 ～ 1800 ℃温度范围的各种加热条件。

1700℃氢气炉 1352     

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气氛烧结炉可用于特殊合金、陶瓷材料、贵金属材料等在保护气氛下进行烧结、热处理、熔化与浇铸。可为特种陶瓷、电子陶瓷、结构陶瓷、功能陶瓷、压电陶瓷、磁性材料、粉末冶金、稀土材料、 PTC 材料、三基色荧光粉、抛光粉、金属热处理等行业提供 300 ～ 1800 ℃温度范围的各种加热条件。

压力烧结炉 1847     

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压力烧结炉主要供企业在高气压保护气氛条件下对陶瓷（如碳化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅等）及金属材料（如硬质合金）等进行热等静压烧结处理，同时也适用大专院校、科研单位进行中试批量生产用。适用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度，提高材料的机械性能。

卧式气压炉 1778     

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气压烧结炉主要供企业在高气压保护气氛条件下对陶瓷（如碳化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅等）及金属材料（如硬质合金）等进行热等静压烧结处理，同时也适用大专院校、科研单位进行中试批量生产用。适用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度，提高材料的机械性能。

G3压力炉 1756     

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压力炉主要供企业在高气压保护气氛条件下对陶瓷（如碳化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅等）及金属材料（如硬质合金）等进行热等静压烧结处理，同时也适用大专院校、科研单位进行中试批量生产用。适用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度，提高材料的机械性能。

G4气压烧结炉 1194     

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G4气压烧结炉主要供企业在高气压保护气氛条件下对陶瓷（如碳化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅等）及金属材料（如硬质合金）等进行热等静压烧结处理，同时也适用大专院校、科研单位进行中试批量生产用。适用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度，提高材料的机械性能。

真空气压烧结多功能一体炉 1765     

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真空气压烧结多功能一体炉是在真空或气压条件下将材料烧结成型的成套设备，主要采用电阻加热，由真空或气体加压。在高温下，生坯固体颗粒的相互键联，晶粒长大，空隙（气孔）和晶界逐渐减少，通过物质的传递，其总体积收缩，密度增加，最后成为具有某种显微结构的致密多晶烧结体，从而将物料压制成形。高温、加压以及真空或气压的同时作用显著提高产品的密度、硬度以及其它机械、电子、热学性能。

真空氢气烧结多功能一体炉 1729     

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该真空氢气烧结多功能一体炉是用金属钨网作发热元件及纯金属隔热屏的全金属热场真空电阻炉，具有高洁净度、污染小、高真空度等优点，主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料等在真空或保护气氛中高温烧结，也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

真空脱脂烧结多功能一体炉 1598     

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该真空脱脂烧结多功能一体炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，主要应用于陶瓷，硬质合金，复合材料等在真空或保护气氛中高温烧结或脱脂，也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

真空热压烧结多功能一体炉 1646     

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真空热压炉是在真空（或其它气氛）条件下将材料热压成型的成套设备，主要采用电阻或感应加热，由油缸驱动的压头上下加压。在高温下，生坯固体颗粒的相互键联，晶粒长大，空隙（气孔）和晶界逐渐减少，通过物质的传递，其总体积收缩，密度增加，最后成为具有某种显微结构的致密多晶烧结体，从而将物料压制成形。高温、加压以及真空或气氛的同时作用显著提高产品的密度、硬度以及其它机械、电子、热学性能。

氮化铝反应烧结炉 1571     

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反应烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，专为氮化铝粉末制成烧结。

氮化硅真空烧结炉 1669     

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真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，专门碳化物、氮化物及氧化物陶瓷在真空或保护气氛中烧结成制品，也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

碳化硼真空烧结炉 1642     

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真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，专门碳化物、氮化物及氧化物陶瓷在真空或保护气氛中烧结成制品，也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

碳化硅真空烧结炉 1571     

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真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，专门碳化物、氮化物及氧化物陶瓷在真空或保护气氛中烧结成制品，也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。