本发明属于有色金属高温冶炼领域，特别涉及一种可以量产化的电解铬片脱气的生产工艺。解决了国内没有量产化高纯铬片的问题。
背景技术：
高纯金属铬是指主成分铬大于99.95％，杂质含量低，特别是氧、碳、氮、硫含量低的铬。其中，氧小于0.04％，碳小于0.025％，氮小于0.003％，s小于0.002％。高纯金属铬主要用作超级合金添加剂-生产飞机涡轮机的叶片，电气的触头、半导体、芯片溅射靶材等领域。
其中高端半导体、芯片、精密电子产品、汽车活塞环以及光学材料镀膜的铬靶，是由高纯脱气铬片/粒破碎后，热等静压成型。要求成品铬靶的铬含量大于99.95％，同时气体元素要求更严格：氧小于0.018％，碳小于0.005％，氮小于0.003％，s小于0.002％。
由于破碎过程中会增加氧含量，因此对脱气铬片的氧含量要求小于0.005％(即50ppm)。
目前全球能够量产做到脱气铬片的氧含量小于0.005％的，只有三家公司：俄罗斯的polema公司，日本的jmc(重化学)公司以及日本光正公司。其中polema和光正公司采用的是氢还原脱气的工艺，而jmc采用的是碳还原脱气的工艺。下表是三个厂家的产品数据：
相比之下，我国还没有一家能够量产达到氧含量小于0.005％(50ppm)的99.95％以上纯度的脱气高纯铬片/粒，使我国在高纯铬生产和研发领域一直受国外供应商的制约，在特殊国际环境下还可能会危害国家安全。
由国内专利cn102808092a(申请人：苏州晶纯新材料有限公司)公知了一种超低氧铬片的制备方法，采用的是氢还原脱气的工艺，通过在1000℃～1500℃之间、炉内氢气压为1～50pa的条件下，脱气1～10hrs，最终获得了最好可达到氧含量为60ppm的脱气电解铬片。
该工艺采用的实验室模式，装料氧化铝坩埚体积为500ml，也即装料重量为1.3kg左右，远没有达到量产的数量要求，成本太高，经济效益不足。且该专利实施案例中，最好的脱气结果中氧含量为60ppm，差于日本光正的上限30ppm和俄罗斯polema的50ppm。因此该专利的工艺没有实现量产，产品指标也没有达到要求。
国内也没有其他铬片脱气的相关专利。因此本发明将通过合理设计炉体结构、装料坩埚、装料方式、氢气流线路以及合理的温度控制，可实现电解铬片的氢还原脱气的量产效果，指标能达到国外同行最高水平。
技术实现
声明：
“可量产化的电解铬片脱气工艺的制作方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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编辑：中冶有色网
来源：北京兴荣源科技有限公司
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2025年06月06日 ~ 08日 
