本发明公开了一种活性材料修饰隔膜及其制备方法,该隔膜包括:具有绝缘及支撑作用的基膜层、可同锂枝晶反应的活性物质层。所述基膜为聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚偏氟乙烯膜、聚偏氟乙烯‑六氟丙烯膜、聚酰亚胺膜、聚酰胺膜、聚四氟乙烯膜、聚炳烯酸酯类膜、聚氯乙烯膜、聚环氧乙烯膜、玻璃纤维膜、纤维素膜、无纺布膜中的一种或多种复合膜。所述活性物质层的制备方法是将活性物质同粘结剂制成混合浆料,然后沉积到基膜上。所述沉积方法是刮涂、转移涂、喷涂、磁控溅射、粒子束溅射、原子层沉积、电子束蒸镀、脉冲激光沉积、气相沉积。所述活性物质层至少沉积于隔膜一侧。
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