本发明属于表面活性剂技术领域,具体涉及一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物,按质量百分数之和为100%计,包括0.1‑5%的特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂,5‑20%无机强碱性物质,0.5‑20%有机助剂,0.1‑5%螯合剂,余量为高纯水。本发明通过特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂与无机强碱混配,可以快速并有效去除蒸镀工艺中掩膜版及蒸镀设备坩埚上附着的LiF电极材料,大大提高了锂盐的溶解度,解决了市面上产品存在的沉淀问题,且易清洗无残留。
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