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高性能硅基薄膜的制备方法及其应用

1002   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:11:53
本发明提供了一种多孔结构硅氧复合薄膜及其制备方法与应用。所述多孔结构硅氧复合薄膜的制备方法包括的步骤有：将硅靶材在惰性气体与氧气的混合气氛下进行溅射处理，在基体上生长硅氧复合薄膜，并进行退火处理，得到硅和氧化硅的复合薄膜；用腐蚀剂对制备好的复合薄膜进行刻蚀处理，然后清洗和烘干之后即得到多孔结构硅氧复合薄膜。本发明制备的硅氧复合薄膜有大的比表面积、高的储能密度、较高的电导率、可以吸收硅氧复合薄膜在充放电时产生的体积膨胀，减轻周期性体积变化的应力，保持锂离子嵌入/脱出过程中的结构稳定性，保持高的可逆容量，比容量高。另外，所述制备方法工艺简单，设备依赖度低，适合工业化生产。
声明：
“高性能硅基薄膜的制备方法及其应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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