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氧化锡多孔薄膜及其制备方法

871   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:05:14
本发明公开了一种氧化锡多孔薄膜及其制备方 法，属于一种功能材料。本发明需要解决的技术问题是提供一 种氧化锡多孔薄膜及其制备方法，用这种方法所制成的氧化锡 多孔薄膜，其孔隙率高，比表面积大。本发明的技术方案要点 是，氧化锡多孔薄膜，孔径为0.01－1000μm，孔隙率为20％ －70％，比表面积为10m2/g－ 150m2/g。氧化锡多孔薄膜的制备 方法，将锡源和有机酸置于反应器中在100－280℃在下搅拌溶 解得到锡的有机物前驱体，将上述前驱体放入马弗炉内在大于 300℃条件下控温烧结，制成氧化锡多孔薄膜。有机酸为柠檬 酸或者乌头酸。锡源为金属锡、二氯化锡、四氯化锡中的任一 种。本发明可用于气敏元件、锂电池阴极材料、催化、分离吸 附、光学及环境污染治理等领域。
声明：
“氧化锡多孔薄膜及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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