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激光处理与电化学元件层沉积的整合

950   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:04:00
一种在设备中制造电化学元件的方法，此方法可包含：提供电化学元件基板；在此基板之上沉积元件层；原位施加电磁辐射至元件层以实现元件层的表面重构、再结晶及致密化中的一或更多者；重复此沉积及此施加直至达成所需元件层厚度为止。此外，施加可在沉积期间进行。一种薄膜电池可包含：基板；集电器，在此基板上；阴极层，在此集电器上；电解质层，在此阴极层上；及锂阳极层，在此电解质层上；其中LLZO电解质层具有结晶相，没有归因于LLZO电解质层中的裂缝的短路，且在电解质层与阴极层之间的介面处无高电阻夹层。
声明：
“激光处理与电化学元件层沉积的整合” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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