本申请涉及一种负极极片及包含其的
电化学装置,其中所述负极极片包括具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面的集流体;设置在所述第一表面和/或所述第二表面的周缘部分上的绝缘层;以及设置在所述绝缘层上并覆盖所述第一表面和/或所述第二表面的保护层。本申请通过在电化学装置中的负极极片上设置的绝缘层及保护层构造出封闭空间,以限制锂金属在负极极片上的沉积空间,从而解决锂金属不规则沉积造成的安全问题。
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“负极极片及包含其的电化学装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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