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基于超薄氧化锂高k介电层薄膜晶体管的制备方法

722   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 22:45:39
本发明属于半导体薄膜晶体管制备技术领域，涉及一种基于超薄氧化锂高k介电层薄膜晶体管的制备方法，选用低阻硅作为基底和栅电极，采用热退火的方式制备超薄Li2O栅介电层和高透过率、化学稳定性良好的In2O3半导体沟道层，进一步制备高性能、低能耗的TFT器件；其工艺简单，原理可靠，低成本，能耗少，制备的产品性能好，应用前景广阔，为大面积制备高性能的薄膜晶体管提供可行性方案。
声明：
“基于超薄氧化锂高k介电层薄膜晶体管的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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