本发明公开了一种适用于普抗8μm
锂电铜箔延伸率稳定提升的添加剂及其使用方法,添加剂包括苯并咪唑二硫代甲酸丙磺酸钠、邻苯甲酰磺酰亚胺钠、健那绿B、聚乙二醇、盐酸;使用方法为将添加剂加入硫酸铜电解液中,使电解液中铜离子90‑110 g/L、硫酸根100‑120 g/L、苯并咪唑二硫代甲酸丙磺酸钠1‑10 ppm、邻苯甲酰磺酰亚胺钠1‑15 ppm、健那绿B 10‑50 ppm、聚乙二醇1‑20 ppm、氯离子15‑30 ppm。该添加剂及其使用方法所生产的普抗8μm锂电铜箔稳定抗拉强度稳定、表面粗糙度低、厚度均匀,可稳定提升的延伸率,常温抗拉强度340 MPa~350 MPa,延伸率≥10%。
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