本发明涉及一种遮蔽装置及补锂设备,遮蔽装置包括驱动组件和环形遮蔽片,环形遮蔽片包括遮蔽片主体和遮蔽部,遮蔽片主体设有补锂开口,遮蔽部位于补锂开口内;环形遮蔽片与驱动组件连接,驱动组件用于驱动环形遮蔽片运动,以使遮蔽部在靶材安装机构与基片之间的区域与基片同步运动,且遮蔽部的正投影至少部分位于基片上,以用于在补锂时使基片上形成电极区和留白区。该遮蔽装置在使用时,环形遮蔽片可与基片的收放卷装置同步运转,使遮蔽部在靶材安装机构与基片之间的区域与基片同步运动,遮蔽部与基片相对静止,从而在补锂区间内持续对基片上的特定区域进行遮蔽,确保基片的电极区可以有效进行溅射,而防止被遮蔽的区域镀膜,从而形成留白区。
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