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高比表面积的TiN电极、制备方法及其应用

778   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 20:32:59
本发明属于新能源技术领域，提供一种高比表面积的TiN电极、制备方法及其应用。主要是通过硅片制绒工艺对硅衬底表面进行粗糙化处理，在衬底材料表面形成由多个密排微米级金字塔组成的微观粗糙结构，使沉积在衬底上的TiN电极的比表面积增大，导致其电化学电容性能显著提高。这种高比表面积的TiN电极具有广阔的应用前景，例如，可用作微型超级电容器的电极材料。本发明能够保证其他工艺过程不变的条件下，克服了原来光滑电极电容性差、活性低等缺点，此制造技术与微电子工艺兼容，方法简便可行，成本低廉，且经济效益显著。
声明：
“高比表面积的TiN电极、制备方法及其应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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