本发明涉及纳米
复合材料合成技术领域,针对金属纳米片构筑步骤繁琐、制备周期长的问题,提供一种金属纳米片的制备方法,先在硅衬底上自组装出密排的PS胶体球阵列,得到有序PS胶体球阵列模板;再在表面磁控溅射一层金属膜,形成金属纳米帽子阵列(MFON);然后在表面继续溅射氧化物薄膜,重复溅射金属膜和氧化物薄膜0‑9次得到纳米柱[M/(XaOb)]n(n=1‑10)多层膜结构;最后除去PS胶体球阵列进行退火处理,即得金属纳米片。本发明将PS胶体球模板和物理沉积技术相结合,步骤简单、金属消耗量少、重复性好,且制得的金属纳米片比表面积大。
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